半导体产业污水处理新突破：如何有效除氟？
在半导体制程清洗、湿法刻蚀等工序中，会使用氢氟酸、氟化铵，其他多种含氟化合物。废水中含氟浓度可以达到1000~3000 mg/L。
客户寄来的半导体含氟废水，原水氟含量 15mg/L, 日处理水量3500方，客户要求废水中氟化物降低至1 mg/L以下。
水质特点：污染物浓度较高，如氟、氨等，废水呈酸性。我们用WD倍净师深度除氟剂做个实验：
实验过程
使用倍净师深度处理半导体含氟废水，反应速度快，只需要15min ，废水中氟化物降低到排放标准。
中文
English
